原在台灣美光任職的何建廷、王永銘，跳槽至聯華電子股份有限公司，涉嫌將美光製造技術洩露給聯電，經檢方起訴，台中地院今天下午宣判，依違反秘密營業法等罪將何建廷判刑五年六個月，併科罰金500萬；王永銘四年六個月，併科罰金400萬；聯電協理戎樂天判刑六年六個月，併科罰金600萬；聯電被判處罰金新台幣1億元。可上訴智慧財產法院。
中檢於2017年9月依違反營業秘密法等罪起訴何建廷、王永銘，以及聯電的協理戎樂天、聯華電子股份有限公司等。台中地院經兩年九個月審理，全案今天下午宣判，合議庭判決三人有罪，聯電被判處罰金新台幣1億元。
台中地院行政庭長林源森表示，依據智慧財產案件審理法規定，訴訟資料涉及營業祕密者，審判不公開，本案2017年9月初起訴，因全案涉及營業秘密，資料是否能在法庭公開、律師閱卷範圍，雙方都有意見。
直至今年初，合議庭才裁定秘密保持命令（不能對外洩露），雙方負有保密義務，連律師、或專業人員閱卷，旁邊也須有人陪同，不能影印、抄錄、攝影，至今年2、3月間，合議庭才密集審理，有時開庭到半夜，檢辯展開攻防。
林源森表示，該案由該院智慧財產專組審理，且是刑事民事一併審理。並有別於其他刑事案件，若被告判有罪，可向智慧財產法院提起上訴，而不是向台中高分院上訴。
起訴書指出，聯電公司2016年元月間，與大陸福建省晉華電路有限公司洽談，雙方協議進行32奈米DRAM及32S奈米DRAM相關製程技術開發，成果雙方共有，整體技術完成後，轉移至晉華進行量產。
聯電同年元月間，在台南市科學園區成立新事業發展中心，招募原在台灣美光公司任職的何男、王男，由戎男擔任協理。
聯電、晉華及日本的UMI公司等三方，同年11月簽訂「F32奈米設計服務協議」，約定將聯電公司所制定的DRAM設計規則，轉換為程式碼後，送交UMI公司進行設計圖修訂、執行程式及晶片設計製作，再交晉華進行DRAM量產。
何男原擔任台灣美光公司量產整合部課長，曾登入公司管制的電腦伺服器，複製至自己所有的隨身碟、個人硬碟，且持有美國美光公司營業秘密紙本資料，離職後至聯電公司任職擔任經理。
何男並未銷毀他所持有的美光公司電磁紀錄及紙本資料，反以聯電公司所配發的公用筆記型電腦，讀取美光電磁紀錄，並將美光紙本資料攜帶至辦公室使用。
王男原在台灣美光公司擔任品質工程部副理，有權限查詢所有成品的相關資料，以確認DRAM晶圓產品符合客戶要求的規格及品質，同年4月間向美光公司提出辭職申請後離職。
王男在美光未離職前，以他擔任副理的權限，大量讀取美國美光公司以營業秘密及著作保護、內容為製造DRAM晶圓之方法、技術、製程、設計的電磁設備，下載於筆記型電腦。
同月底，王男跳槽至聯電任職，擔任技術經理，至同年7、8月間，戎姓協理要求王參考台灣美光公司的資料，與聯電公司F32DRAM「設計規則」交互比對，將不同部分挑出，協助完成設計規則。全案經法官審理後，今天下午宣判。
本文轉載自2020.6.12「聯合新聞網」，僅反映作者意見，不代表本社立場。
