台積電離職工程師陳力銘等人涉洩漏台積電營業秘密，智慧財產及商業法院今天依國安法等罪判陳力銘10年徒刑；東京威力公司判罰金1億5000萬元，緩刑3年。全案可上訴。
根據法院新聞稿，東京威力承認犯罪，積極配合偵查，並偕同母公司日商東京威力株式會社與台積電達成和解，法院宣告緩刑3年，應於判決確定之日起1年內，向台積電支付新台幣1億元，並向公庫支付5000萬元。若未支付，將撤銷緩刑，執行罰金刑。
本案為國家安全法有關竊取國家核心關鍵技術相關條文修法後判決首例。判決指出，陳力銘犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪等5罪，判刑10年；案發時任職台積電工程師的吳秉駿犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪、國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑3年；工程師戈一平犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑2年。
此外，台積電工程師陳韋傑犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑6年；東京威力員工盧怡尹犯湮滅刑事證據罪，判刑10月，緩刑3年，支付公庫新台幣100萬元，參加法治教育課程6場次。
根據檢方起訴，陳力銘於民國112年下半年至去年上半年，為替東京威力爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後俾利東京威力檢討改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。
台灣高檢署智財分署去年8月27日依國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用等罪起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平，後續認定東京威力對陳力銘負有監督責任，追加起訴東京威力公司。
檢方另查出東京威力硬碟尚存有台積電的國家核心關鍵技術，即「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密，追加起訴陳力銘、陳韋傑、盧怡尹。
智商法院指出，陳力銘為求工作表現而犯案，共5件犯行，造成台積電營業秘密可能外流的危險，並危及產業國際競爭力與國家經濟安全；台積電具狀表明東京威力屬於其半導體製造設備供應商的在台服務公司，並非其競爭對手，陳力銘蒐集的營業秘密均未洩漏給東京威力公司及母公司日商東京威力科創株式會社以外的第三方。
智商法院表示，陳力銘其中1件犯行在偵查中主動供出陳韋傑涉案，依法免除其刑，且陳力銘於偵查及審判中自白，審酌陳力銘充分配合且協助調查，經台積電表明願意接受其道歉，判應執行有期徒刑10年。吳秉駿、戈一平自白且充分配合調查，並經台積電具狀表明原諒。
智商法院指出，陳韋傑擅自重製的營業秘密屬於14埃米製程的機密資訊，為台積電半導體製程從「奈米」邁「埃米」時代的先進技術節點，乃延續並保持在全球最先進製程領導地位的關鍵，迄今亦未取得台積電諒解，加上陳韋傑僅坦承客觀事實，判刑6年。
判決表示，盧怡尹刪除陳力銘翻拍台積電營業秘密圖檔，湮滅刑事證據，但在發現刪除的電磁紀錄因不明原因回復後，主動通報東京威力，由東京威力陳報偵查機關，並於準備程序時坦認犯行，宣告附條件緩刑及付保護管束。
智商法院指出，東京威力承認犯罪，積極配合檢察官偵查及台積電內部調查，盡力降低本案對於台積電、半導體產業國際競爭力及國家經濟安全所生危害，並偕同其母公司日商東京威力株式會社與台積電達成和解，除同意支付相當金額外，另有積極檢討並建立防止措施的具體作為，宣告緩刑。
